设备名称：离子束刻蚀机

用途

把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面撞击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理过程。用于刻蚀较难刻蚀的物质及金属。一次可刻蚀6寸片/4寸片/3寸片一片或2寸片4片。刻蚀均匀性<±5%。

主要技术指标
6英寸向下兼容、4英寸、2英寸，碎片；本底真空：5.0E^-4Pa，工作真空：2E^-2Pa，温度：20度。极限真空度：4.3×10^-5Pa；离子能量：≤600eV。（标准工艺，离子能量可选350eV或400eV）常规金属比如Au,按350eV，刻蚀速率可达26-28nm/min,按400eV,刻蚀速率可达35nm/min。