NLD-570 刻蚀机
刻蚀/CMP
NLD-570 刻蚀机
技术指标:

设备配气:Ar、O2、O2(大、小量程之分)、CF4、C4F8、CHF3、C3F8、SF6。

Antenna RF:0-2000W。

Bias RF:0-1000W。

Shield:~+200℃。

chiller:-20~+40℃。

NLD COIL60A

价格: 500/30分钟  单位预约时间: 30(单位:分钟)



应用领域: NLD(neutral loop discharge,磁中性环路放电)较ICP而言,可对形成在真空腔内的磁场强度为0的环形磁中性线施加高频电场,并由此产生等离子体。通过改变电流大小可以控制等离子体的直径及密度,所以具有高刻蚀速率、高均匀性、高等离子体密度及低压放电等优点。可用于SiO2、石英、微透镜及SiC等材料的刻蚀。
NLD-570 刻蚀机