光学镀膜机
离子注入/镀膜
光学镀膜机
技术指标:

一次可蒸镀六寸片6片,两寸片30片,薄膜不均匀性≤±5%"

真空配置:真空系统采用干泵+冷凝泵,

光学膜厚仪监控波长范围:350-1100nm,波長精度:<±1nm, 配置射频辅助等离子源,离子流密度分布均匀,

装片:6片六英寸衬底,或6片四英寸,30片两英寸衬底。

基底最高加热温度:350℃。 极限真空:低于5.0E-5Pa 

恢复真空:15分钟之内达到8.0E-4Pa

目前可淀积材料包括:SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3 蒸发速率0.5A/s-5A/s,蒸发功率0-40%,;

工作真空:1E-3Pa,温度20-350度,气体(Ar、O2),蒸发料(SiO2、TiO2、Ta2O5、ZrO2、MgF2、ZnS、OS50、ITO等)。

价格: 500/30分钟

单位预约时间: 30(单位:分钟)



应用领域:

光学薄膜泛指在器件表面用物理化学等方法沉积,利用光的干涉现象以实现增透、高反射、滤光、分光等光学现象。

例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小;采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高太阳能电池的效率和稳定性。

主要用于光学增透膜、高反膜、ITO、截止滤光片等光学薄膜蒸镀,配备两把电子枪和射频等离子体辅助源。

光学镀膜机